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淺析石墨烯管式爐三種不同真空系統(tǒng)的特點

更新時間:2019-07-25      點擊次數(shù):2493
   石墨烯管式爐主要運用于冶金,玻璃,熱處理,鋰電正負極材料,新能源,磨具等行業(yè),測定材料在一定氣溫條件下的專業(yè)設(shè)備。爐型結(jié)構(gòu)簡單,操作容易,便于控制,能連續(xù)生產(chǎn)。管石墨烯管式爐主要運用于冶金,玻璃,熱處理,鋰電正負極材料,新能源,磨具等行業(yè)測定材料在一定氣氛條件下的專業(yè)設(shè)備。
  石墨烯管式爐的真空系統(tǒng)你是否有所了解呢?
  一般真空管式爐的真空系統(tǒng)應(yīng)具有:快速將真空管式爐的真空度抽到規(guī)矩要求,能及時清掃被處理工件和爐內(nèi)構(gòu)件所釋放出的各種氣體,并且真空機組占地面積小,作業(yè)安全可靠,操作簡練三個要求。
  石墨烯管式爐的*設(shè)計能夠?qū)崿F(xiàn)在真空保護條件下對樣品快速升降溫,四面加熱,溫場更均勻,立式結(jié)構(gòu)使得氣體排放更加順暢,爐體垂直安裝在可移動支架上有利于爐管取放溫度的均勻性,可以預(yù)抽真空并能通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點,特別適合薄膜生長、電極測試、氧化物晶體生長、快速退火等實驗需要。
  立式管式氣氛爐主要應(yīng)用于院校實驗室、工礦企業(yè)實驗室,應(yīng)用于高、中、低溫CVD工藝,如碳納米管的研制,晶體硅基板鍍膜,金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
  由于石墨烯管式爐的種類是比較多的,并且每個對真空管式爐的真空系統(tǒng)要求都是不一樣的,根據(jù)真空度而言,有低真空,中真空,高真空三個系統(tǒng)。下面來詳細說一下這三個真空系統(tǒng)在石墨烯管式爐中的實際應(yīng)用。
  1、低真空系統(tǒng)
  真空管式爐的低真空系統(tǒng)適用于規(guī)劃的真空管式爐,如預(yù)抽低真空井式爐,大多以油封式旋轉(zhuǎn)機械泵為主泵。
  2、中真空系統(tǒng)
  中真空系統(tǒng)適用于真空度在規(guī)劃的真空管式爐,中真空系統(tǒng)在真空管式爐的運用中是比較廣泛的,一般由兩級真空泵機組組成。初級泵多選用旋轉(zhuǎn)機械泵或滑閥式機械泵,主泵為機械增壓泵或油增壓泵。
  3、高真空系統(tǒng)
  高真空系統(tǒng)一般由三級真空泵機組組成,主泵一般選用離子泵,初級泵大都也是選用旋轉(zhuǎn)機械或滑閥式機械泵。
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